2013年 – SIJテクノロジ

2013年12月5日
2013 MRS Fall Meeting and Exhibitに出展致しました。
(2013年12月3日(火)～12月5日(木)　Hynes Convention Center and adjacent Sheraton Boston Hotel, Boston, Massachusetts)
http://www.mrs.org/fall2013/
たくさんのご来場誠に有難う御座いました。

2013年11月8日
ACSIN-12&ICSPM21に出展致しました。
(2013年11月5日(火)～11月8日(金)　つくば国際会議場)
出展ブース：２２(２Ｆ　中会議室２０１前)
ACSIN-12&ICSPM21： http://dora.bk.tsukuba.ac.jp/event/acsin12/
たくさんのご来場誠に有難う御座いました。

2013年11月1日
産総研オープンラボに出展致しました。
(2013年10月31日(木)～11月1日(金)　産総研つくばセンター)
出展ブース：第２会場(Ｅ１－２６：マスクなしで作る微細銅配線)
第６会場(Ｖ－０５：スーパーインクジェットプリンター)
産総研オープンラボ： http://www.aist-openlab.jp/
たくさんのご来場誠に有難う御座いました。

2013年10月29日
「世界最小、配線幅3μmの超微細インクジェット銅配線技術を開発」について、以下のメディアに掲載されました。
・日経産業新聞 9面
・日刊工業新聞　25面
・化学工業日報　5面
・日刊産業新聞

2013年10月28日
【プレスリリース】
「世界最小、配線幅3μmの超微細インクジェット銅配線技術を開発」について、プレスリリースを行いました。
成果のポイントは以下のとおりです。
◆ナノ粒子製造技術により、インクジェットの吐出性に優れた銅ナノ粒子インクを開発
◆超微細インクジェット技術により、デジタルデータに基づき配線幅3μmの銅配線を直接描画
◆極低酸素還元技術を進化させ、銅の配線抵抗率4μΩ・cmを達成
※「産総研オープンラボ：2013年10月31日～11月1日」に出展致しました。
プレスリリース記事のPDF版をご要望の際は、会社名／お名前／メールアドレスを明記の上、pressrelease@sijtechnology.comまでご連絡ください。

2013年9月24日
第1回 TECHNOLOGY FORUMにて講演致しました。
会場：アキバホール（富士ソフトアキバプラザ5F　秋葉原）
日程：2013年9月24日(火)　13:00～13:45
内容：「超微細インクジェット技術を用いたミクロンオーダーの直接描画プロセス」
たくさんのご来場誠に有難う御座いました。
http://www.natureasia.com/ja-jp/advertising/tech-forum/events/01-materials

2013年8月21日
【インタビュー記事が掲載されました】
SankeiBiz(産経新聞グループの総合経済情報サイト)の連載コラム
「キラリ！わが社の商品・サービス」に超微細インクジェットについてのインタビュー記事が掲載されました。
http://www.sankeibiz.jp/business/news/130821/bsl1308210501005-n1.htm

2013年8月15日
2013 台北国際発明展及びテクノマート見本市に出展します。
会期：2013年9月26日(木)～9月29日(日)
場所：台北世界貿易センター　ホール１
ご来場お待ちしております。
http://www.inventaipei.com.tw/en_US/index.html#top

2013年7月8日
ナノ・マイクロビジネス展(旧マイクロマシン／MEMS展)に出展致しました。
(2013年7月3日(水)～7月5日(金)　東京ビッグサイト)
ブース番号：東ホール　B-12
たくさんのご来場誠に有難う御座いました。
http://www.micromachine.jp/

2013年6月24日
第17回機械要素技術展
㈱つくば研究支援センターブースに出展致しました。
(2013年6月19日(水)～6月21日(金)　東京ビッグサイト)
ブース番号：東ホール　51-44
たくさんのご来場誠に有難う御座いました。
http://www.mtech-tokyo.jp/

2013年6月12日
スーパーインクジェット技術が日本画像学会技術賞を受賞し、同第111回年次大会において表彰されました。

2013年6月10日
eX-tech2013(JPCA Show2013内)に出展致しました。
(2013年6月5日(水)～6月7日(金)　東京ビッグサイト)
ブース番号：東ホール　3L-14-2
たくさんのご来場誠に有難う御座いました。
http://www.jpcashow.com/show2013/index.php/

2013年4月26日
ナレッジキャピタル・日本科学未来館共同企画の「THE世界一展」に展示協力をしております。
期間：2013年4月26日（金）から9月1日（日）まで
場所：ナレッジキャピタル(梅田駅北(通称うめきた)・グランフロント大阪)
本イベントは、日本科学未来館の企画協力により、175超の日本が世界に誇る知の数々(技術・製品・プロジェクトなど)を、全国各地から集めて展示します。
http://the-sekai1.jp/

2013年2月1日
Printable Electronics2013にて「プリンタブルエレクトロニクス2013 独創性部門賞」を受賞致しました。
2013年2月1日
nanotech2013
Printable Electronics2013
(2013年1月30日(水)～2月1日(金)　東京ビッグサイト)
今回はＳＩＪテクノロジ初！　４箇所に出展致しました。

・nanotech2013
ＳＩＪ単独ブース：東４ホール　４Ａ－０８
ＮＥＤＯブース：東４ホール　４Ａ－１９
中小企業ブース：東５ホール　５Ａ－０１
＊中小企業ブースではＳＩＪ技術のセミナーを行いました。

1月30日(水)　14:30-15:00　「聴講料無料」
【超微細インクジェット（スーパーインクジェット：SIJ）技術のご紹介】
・Printable Electronics2013
ＳＩＪ単独ブース：東３ホール　３Ｂ－２２
たくさんのご来場誠に有難う御座いました。
http://www.nanotechexpo.jp/
http://www.printable-electronics.com/

2013年1月29日
【プレスリリース】
「有機半導体の高性能化をもたらす塗布技術の開発に成功」について、プレスリリースを行いました。
成果のポイントは以下のとおりです。
◆大阪大学が開発した結晶性有機半導体材料と、SIJテクノロジのスーパーインクジェットを利用
◆超微細インクジェットで塗布する事で、結晶の方位がそろった高品質な有機半導体結晶薄膜を高速形成
◆形成された有機半導体結晶薄膜上に有機トランジスタ構造を作成
◆結晶性を高めるための熱処理を行う事無く、3.8Vcm2/Vsの高移動度を実現
◆開発技術は局所的に結晶方位を制御した微細塗布が可能
◆特許出願済み
※「nano tech2013」および「Printable Electronics 2013」に出展し、本技術を初公開します！
プレスリリース記事のPDF版をご要望の際は、会社名／お名前／メールアドレスを明記の上、pressrelease@sijtechnology.comまでご連絡ください。